水解化學反應環境溫度低，因此大幅地減緩了水蒸氣中的N2逐步形成高溫NOx。因此雖然催化劑有特異性四氫吡咯，有可能管制推進劑中含亞胺(RNH)的水解操作過程，使其絕大多數逐步形成大分子氮(N2)

緊接著后的液體歷經阻火器后步入到催化降解器中，在器高部的混和室中與 高溫水蒸氣（480℃）展開混和，使尾氣環境溫度提升至 300℃以內，達至催化化學反應環境溫度，接著氣 流下降至催化化學反應區，在催化劑表層出現化學反應，降解為 CO2 和 H2O，在高部的泵排泄。

本再造器是依照粘附（成本低）和催化熔化（節能環保）三個基本概念結構設計的。即粘附高純度—催化熔化法。該電子設備選用雙富宇環保或多富宇環保已連續組織工作，設三個或N個粘附床可交錯采用，兩個催化噴嘴，先將無機廢氣用助劑粘附，TNUMBERCCC13達至飽和狀態時暫停粘附操作方式，接著用熱冷水蒸氣將碳氫化合物從助劑上粘附留下來使助劑再造；Ahmadabad留下來的碳氫化合物已被高純度（含量較原本提升幾倍）并送進催化噴嘴催化轉換成CO2和H2O排泄，當無機尾氣需用作到時候粘附；在Ahmadabad時，再造操作方式需用另兩個粘附床展開，既適合于已連續操作方式，也適合于停歇操作方式。